【UE4】Unreal Engine 総合 part12【UE5】at GAMEDEV
【UE4】Unreal Engine 総合 part12【UE5】
- 暇つぶし2ch658:名前は開発中のものです。
22/10/20 23:53:08.31 3Wcre/vY.net
>>629
ポストプロセスのAOはジオメトリの形状、正確にいえば深度の凹凸で環境光の影響が変化するものだから
デプス書かないマテリアルじゃないと影響するよ普通。
同等のマテリアルで試してみたがポストプロセスのAOのIntensityとか調整すれば明らかに変化するし、単にやり方間違ってるとしか。
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