【UE4】Unreal Engine 総合 part12【UE5】at GAMEDEV
【UE4】Unreal Engine 総合 part12【UE5】 - 暇つぶし2ch658:名前は開発中のものです。
22/10/20 23:53:08.31 3Wcre/vY.net
>>629
ポストプロセスのAOはジオメトリの形状、正確にいえば深度の凹凸で環境光の影響が変化するものだから
デプス書かないマテリアルじゃないと影響するよ普通。
同等のマテリアルで試してみたがポストプロセスのAOのIntensityとか調整すれば明らかに変化するし、単にやり方間違ってるとしか。


次ページ
最新レス表示
レスジャンプ
類似スレ一覧
スレッドの検索
話題のニュース
おまかせリスト
オプション
しおりを挟む
スレッドに書込
スレッドの一覧
暇つぶし2ch