【UE4】Unreal Engine 総合 part12【UE5】at GAMEDEV【UE4】Unreal Engine 総合 part12【UE5】 - 暇つぶし2ch658:名前は開発中のものです。 22/10/20 23:53:08.31 3Wcre/vY.net>>629 ポストプロセスのAOはジオメトリの形状、正確にいえば深度の凹凸で環境光の影響が変化するものだから デプス書かないマテリアルじゃないと影響するよ普通。 同等のマテリアルで試してみたがポストプロセスのAOのIntensityとか調整すれば明らかに変化するし、単にやり方間違ってるとしか。 次ページ最新レス表示レスジャンプ類似スレ一覧スレッドの検索話題のニュースおまかせリストオプションしおりを挟むスレッドに書込スレッドの一覧暇つぶし2ch