11/08/04 23:14:48.41 BE:843860148-PLT(14645)
古河機械金属は、窒化ガリウム（ＧａＮ）基板を作製するハイドライド気相成長法（ＨＶＰＥ）において、
結晶欠陥の大幅な低下とＧａＮ基板の歪み低減を実現する新製法「Ｒａｎｄｏｍ ｉｓｌａｎｄ ＦＩＥＬＯ法」
（ｒーＦＩＥＬＯ法）を開発した。
今後需要拡大が見込まれるパワーデバイス用途などにおいて求められる高品質、大口径ＧａＮ基板
の作製に寄与する製法として開発を進め、同基板の本格量産へ向け準備を進めていく。
ソース：化学工業日報
URLﾘﾝｸ(www.kagakukogyonippo.com)
★依頼スレ＠レスｽﾚﾘﾝｸ(scienceplus板:201番)番より
2:名無しのひみつ
11/08/04 23:16:30.40 /uVLpZEF
全く意味がわからんので誰かわかりやすく解説してくれ
3:名無しのひみつ
11/08/04 23:19:38.88 ahfMQxD7
この板は、なんでもありになってきたね
4:名無しのひみつ
11/08/04 23:31:14.57 tWhyC0Ut
URLﾘﾝｸ(www.furukawakk.co.jp)
FIELO法
窒化ガリウム結晶中の転位を低減させる手法で、結晶の成長初期に、
結晶特有なファセット面を作製させることで、貫通転位の大幅な低減が可能となった。
これにより、窒化ガリウム基板全面に亘って、3x106cm-2以下の低転位密度を実現している。
うーん余計分からん。。。でもまぁ、青色LEDのおかげGaN基板の需要が高くなったから、その新しい製造方法を開発した、ってことだろ
5:名無しのひみつ
11/08/04 23:34:14.81 E4r/CqS8
>>2
これはすごい。
ガリウムへ窒化水素を使うMOCVDみたいなものだが、何がすごいって12インチウエハをいきなり一晩でミクロン単位の成膜が出来ちゃう。
おまけにマイクロチャネル無し、歪みなし、基板はSi使えると良いとこだらけ。
バワーデバイスじゃSiCがダメだと見切りがつけられた。
古川電工は高純度のGaを鉱床から大量生産できるし、ケミカルドーピングでバンドギャップもいじれるし、業界的にGaNしかないってなった時にこのニュース。タイミング良すぎる。
6:名無しのひみつ
11/08/04 23:45:53.65 1CLM8WAl
パワーデバイスは時代の華。
7:名無しのひみつ
11/08/04 23:52:49.66 IY9rJFdH
この会社、社員数200人ちょいなんだけどホールディングスなの？
8:名無しのひみつ
11/08/05 00:23:20.15 +QyrI9me
HVPEでGaN基板つくるのは住友化学がすでにやってるし
ファセット成長で転位減らせるのもよく知られている
どこが新しい技術なのか分からんな
特許の関係で細かいところは公開できないのかな
9:名無しのひみつ
11/08/05 05:28:50.35 wgTEcXnv
で、いくら儲かるんだ？
10:名無しのひみつ
11/08/05 09:50:27.64 R1Cc8Cl0
ハイドライドなつかしす
11:名無しのひみつ
11/08/05 14:00:26.53 VrVv5Eho
よくわからんけど
日本バンザイ＼(^o^)／
12:名無しのひみつ
11/08/06 01:06:55.15 4llPzyrp
この技術は青色ＬＥＤとそれを応用したタイプの白色ＬＥＤの低価格化に役立つかな？
10年くらい前、青色LEDの材料のGaＮを成長させるのが難しく高価なサファイア基板を使っていた。
その後、徐々に安い基板が開発されていったが。
13:名無しのひみつ
11/08/06 06:59:10.25 GbsVwZah
大電力系のデバイスが安くできるのかな？
MOSFETくらいの値段で出来ればいいのだけれど。
14:名無しのひみつ
11/08/06 13:09:22.86 I+oqLiUt
>>12
ＬＥＤの低価格化には役立ちません
サファイア基板は数万円なのに対し、GaN基板は数十万円もするし
今回の技術も低価格化のための技術じゃないし
それに今も青色LEDのほとんどはサファイア基板使ってるよ
15:名無しのひみつ
11/08/06 14:23:10.69 X807t9dx
だ、大出力LEDは?
16:名無しのひみつ
11/08/06 18:24:24.82 4K7hpLFp
成果の価値が高ければスレ立てるのか？
科学+に相応しいかどうかの方が重要じゃないのか