06/10/15 02:31:28
>538,559
特許庁ホームページで日亜化学×アニーで検索すると、３３件ヒット。第２５４０７９１が基本のよう。
発明者は中村修二、岩佐成人。熱アニールによるp型化ではなく、熱アニールによるｐ型窒化ガリウム系膜の低抵抗化の特許の内容となっている。
これを読む限り、中村修二も貢献してることになるが？さらに、窒素ガリウム系膜が前提なので、４０４特許も貢献してくる。
>538で
>「窒化ガリウム薄膜を作る段階だけ」というが、窒化ガリウムで実現可能であることを示したことと、
>その工業的製造法の確立とでは、インパクトの差は非常に大きい。
いや、それ、どっちも中村の功績じゃないって
とあったが、中村氏の功績もあるのでは？