20/08/16 23:39:12.12 JHI5fx75n
>>104 つづき
図4と5は、それぞれ右円偏光および左円偏光の異なるレーザーパルス強度に対する無次元パラメーターωce/ω0の関数
として、レーザービームの正規化された最小スポットサイズWmin/W0を示しています。レーザーパルス強度を増加させると、
左回りの円偏光では初期最小スポットサイズが減少し、右回りの円偏光では初期最小スポットサイズが増加することがわか
ります。図6と図7は、それぞれ右円偏光と左円偏光の異なるレーザーパルス強度に対する正規化パラメーターωce/ω0の
関数としての正規化焦点距離変動の図表を示しています。これらの図は、外部磁場を印加することにより、長い焦点距離に
弱い相対論的(a<1)の右円偏光レーザービームを集中できることを示していますが、磁化プラズマレンズを使用して、かなり
強い(a≈1)左回り円偏光ビームを長い焦点距離に集束させるのが妥当と考えられます。