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・ 日本企業が20億円出資、清華大に「電子工程館」建設へ―北京市
2008年9月25日、日本の半導体大手・ロームと中国の清華大学が「清華ローム
電子工程館」を共同建設し、半導体などの研究開発と学術交流関係を強化する
ことで合意した。ロームが20億円を出資する。26日付で中国新聞社が伝えた。
清華ローム電子工程館の延床面積は約3．3万平方メートル。09年に着工し、
3年以内の完成を目指す。同館には半導体デバイスやLSIの研究・開発スペース、
産学連携のための国際交流施設などが設けられ、日中双方の科学研究、人材
育成、学術交流の強化を推し進める。
清華大学とロームは06年に「包括的産学連携契約」に正式合意しており、電子
デバイスの共同研究・開発を行ってきた。在中国日本大使館の片山和之公使は
25日に行われた式典で、「清華ローム電子工程館は科学研究、学術交流の場
となる。日中両国の青年の交流に一役買い、両国国民の友情の証となるだろう」
と述べた。
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写真は清華大学科学技術園。