22/05/02 17:12:43 LE5nvWI60.net
>>78
最先端のオランダのASMLの装置の導入に積極的
ｰｰｰｰ 2014年の記事 ----
最新のＥＵＶ（極端紫外線）露光装置が故障した─。
2月下旬、米カリフォルニア州で開催された国際光工学会。
次世代の半導体製造技術の動向に注目する参加者の間で“隠れた大ニュース”になったのは、半導体製造大手、台湾TSMCの幹部の言葉だった。
半導体の微細化が限界に近づく中、ＥＵＶは次世代技術の本命とされてきた。
半導体露光装置で世界シェア約8割のオランダASMLが巨費を投じて実用化に邁進。
キヤノンとニコンはすでに開発を断念しており、ＥＵＶが主流になれば、ASMLは最新の露光装置の需要を“総取り”できる。
トラブルを起こしたASMLのＥＵＶ露光装置は、初の量産機としてTSMCに納入されたもの。
だが、試作中にトラブルが起き、レーザーの照射位置がずれて装置の内部を損傷させたという。
ｰｰｰ
ASMLの事故ることもあるぐらいの完成していない最新装置を使って開発始める。
ASMLとの信頼関係や色々な約束があるのかな