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【SPIE】ASMLが「FlexWave」の実体を明らかに，ニコンは照明系のパラメータの取り扱いを議論
リソグラフィ技術に関する国際会議「SPIE Advanced Lithography 2011」（2011年2月27日～3月3日，米国サンノゼ）の光リソグラフィのセッションでは，
最終日に恒例の露光装置メーカーの発表があった｡既報で述べた通り，
露光装置の開口数（NA）が1.35と変わらないため，それをいかに安定して使い切るかと，市場での実績が主な発表内容になった｡
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