12/04/19 10:46:56.93 auzuzAYG
画期的出来事、昔むさこ人事課の教育で基盤はベニヤ板でも出来るとやろもん
と冗談か、無知か定かではない人の教育を受けた記憶がある！
エピタキシャル成長膜のみが超高速結晶化ーアモルファス化が
可能なGe2Sb2Te5薄膜であることが確認できた。
このエピタキシャル膜は驚くことに、GaSb(001)面に形成される、
アモルファス状の一原子層を介しただけで結晶成長することがわかった。
また、結晶中に局所的に存在する斜方晶の歪みは基板の
表面由来であることも確認できた。エピタキシャル膜は<111>面に沿って
成長することもわかった。この配向はGaSb(111)面を用いた同様の実験でも
確認できた。さらに直近の実験では15%も格子不整合をもつSi(111)面上でも
エピタキシャル成長が可能であり、TEM断面では界面は張力を呈するようなうねった構造が
観測されるだけで、顕著な構造転位(dislocation)は見られなかった。？