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2nmプロセスが日本で出ています！長年蓄積されたこの強さ、強すぎる
日本の半導体業界に関して言えば、業界のほとんどの人は自分たちの長所と短所を十分に理解しています。
利点の点では、それらの半導体機器、材料、受動部品、無線周波数、さらにはパワーデバイスは世界最高です。
たとえば、現在人気のある第3世代半導体、5G無線周波数、EUVフォトレジストでは、他の競合他社にはない利点があります。
2nmの戦い
彼らはキヤノン、東京エレ、SCREENなどの地元の大手機器メーカーとも協力して活性化する日本の高度な研究開発を行います。
報道によると、経済産業省からの資金援助を受けるべきこの研究開発チームは、2020年代半ばに2nm以降の次世代半導体の製造技術を確立し、開発するためのテスト生産ラインを設置することを目指しています。微細回路の加工や洗浄などの製造技術。
日本には工場はありませんが、高度なプロセスの上流工程で非常に重要な立場を持っています。ホットEUVリソグラフィーを例にとると、オランダの会社ASMLが世界をリードするEUVリソグラフィーマシンを提供できることは誰もが知っています。
これまでの半導体業界の観察報告では、この分野の複数のリンクで日本企業の強みを見ることができます。
まず、欠陥検出装置を見てください。元の回路基板としてフォトマスクに欠陥があると、それに応じて半導体の欠陥率が増加します。
近年、特にEUVフォトマスク（フォトマスクおよび半導体回路用