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半導体メモリー大手のキオクシア（旧東芝メモリ）は25日、四日市工場（三重県四日市市）のフラッシュメモリーの新工場棟の起工式を開いた。データを保存する「記憶素子」を162層に積み上げた次世代メモリー向けの生産設備を導入する。設備投資は総額で1兆円規模になる見通しで、2022年内にも稼働する。
設備投資は協業先の米ウエスタンデジタル（WD）と共同で実施する。工場建設は2期に分けて実施し、建屋面積は合計で4万平方メートルと同社の工場棟では最大の規模になる。
新工場で製造する「162層」の3次元フラッシュメモリーは既存の「112層」に比べて書き込み速度が2.4倍に高まるほか、チップサイズも4割小さくなる。高速通信規格「5G」の普及を背景に高速・大容量でのデータのやり取りが増えるのをにらみ、データセンターやスマートフォンの需要を開拓する。
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2021年2月25日 14時07分