23/01/02 20:54:49.25 ED0WYUTp.net
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3:名無しのひみつ
23/01/02 21:18:19.17 FoKRg4eM.net
部材装置はどこに入れてるとか言わんでいいよ。
研究開発用にどこも入れてるとか。
4:名無しのひみつ
23/01/02 21:23:29.40 ED0WYUTp.net
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5:名無しのひみつ
23/01/02 22:32:08.96 BE0UdlG7.net
CMPは前工程だな
6:名無しのひみつ
23/01/02 22:37:29.16 BE0UdlG7.net
と思ったらポリイミドなどの樹脂を研磨する後工程なのか?
7:名無しのひみつ
23/01/02 23:06:47.36 bP0MahGm.net
これまた美味しそうな市場に目を付けましたな(´ω`)
8:名無しのひみつ
23/01/02 23:11:37.82 bP0MahGm.net
>>5
これは配線層を積層するためのCMPじゃなくて、完成したウエハーを積層していくから後工程扱いだな
保護膜まで付いた状態のウエハーの(余分な)裏側をゴリゴリ削って薄くしてから積んでいくためのもの(´ω`)
9:名無しのひみつ
23/01/03 01:42:47.65 63Dj8T3n.net
>>8
語尾に顔文字付ける自己顕示止めろ
10:名無しのひみつ
23/01/03 02:09:30.18 HyDJfG1T.net
大本営発表?
11:名無しのひみつ
23/01/03 03:43:34.11 sfpMUMgn.net
買いなの?
12:名無しのひみつ
23/01/03 12:10:12.16 MRq0RAZs.net
>>8
6ですぐに訂正してるが
13:名無しのひみつ
23/01/03 12:25:32.35 T1vzb/nP.net
>>1
次世代パワー半導体の研究だと関西だと大阪工大がかなりやってるね
14:名無しのひみつ
23/01/31 16:22:11.03 l2L8rxB7.net
>>1
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