【論説/半導体】2nm量産はこんなに困難、非現実的すぎて噴飯物の日本の半導体製造強化策 [すらいむ★]at SCIENCEPLUS
【論説/半導体】2nm量産はこんなに困難、非現実的すぎて噴飯物の日本の半導体製造強化策 [すらいむ★] - 暇つぶし2ch29:名無しのひみつ
[ここ壊れてます] .net
ネトウヨはここだけでも読んどけよw

>半導体の微細化は、1世代ごとに70%ずつ縮小することによって進められている。
>図4で言えば、日本は45nmから先に進めなかった。その先は、32nm、22nm、
>16/14nm、10nm、7nm、5nm、3nm、2nmと進むことになる
>日本が辛うじて生産できる45nmからは、2nmというのは9世代先の微細化レベル
>である。これがどのくらい難しいか?
>まず、微細化を1世代進めると、必ず問題が発覚し、それを解決するために
>さまざまな試行錯誤を繰り返すことになる。
>例えば、2015年辺りまで微細化のトップランナーだった米インテルは、2016年に
>14nmから10nmに進むことができず、その後5年間、10nmの立上に失敗し続けていた。
>サムスンは、TSMCと同じ時期の2019年に7nmを立ち上げ、その後、6nm、5nm、4nm、
>3nmと数字だけは進んでいるように見えるが、5nm以降の歩留りがまったく上がらず、
>TSMCより早くGAA構造を採用した3nmに至っては絶望的な状況で、2nmの練習を
>行っているという噂があるほどだ。


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